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Chemical Vapour Deposition
(CVD) Verfahren zur Abscheidung von Dünnschichten bei der IC-Herstellung, durch chemisches Aufdampfen, für (Opto)Halbleiter. Es gibt diverse Verfahren, etwa aus der Dampfphase, Plasma etc., s.a. MCVD, MOCVD, PCVD, OVPO, PVD.